[发明专利]真空吸附装置在审
申请号: | 201810065735.0 | 申请日: | 2018-01-23 |
公开(公告)号: | CN108059076A | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 许根夫;成学平 | 申请(专利权)人: | 深圳市杰普特光电股份有限公司 |
主分类号: | B66C1/02 | 分类号: | B66C1/02;F16B47/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 石佩 |
地址: | 518100 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种真空吸附装置。该真空吸附装置,包括气路通道,真空吸附装置还包括层叠设置的第一基板及第二基板,第一基板远离第二基板的表面为第一表面,第二基板远离第一基板的表面为第二表面,气路通道位于第一表面与第二表面之间,第一基板与第二基板中的至少一者为透明基板,以使得气路通道可见。在上述真空吸附装置中,由于气路通道可见,从而便于检查气路通道是否堵塞。 | ||
搜索关键词: | 真空 吸附 装置 | ||
【主权项】:
1.一种真空吸附装置,包括气路通道,其特征在于,所述真空吸附装置还包括层叠设置的第一基板及第二基板,所述第一基板远离所述第二基板的表面为第一表面,所述第二基板远离所述第一基板的表面为第二表面,所述气路通道位于所述第一表面与所述第二表面之间,所述第一基板与所述第二基板中的至少一者为透明基板,以使得所述气路通道可见。
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