[发明专利]液体汽化装置及使用该液体汽化装置的半导体处理系统

摘要

本发明涉及一种高效半导体成膜用液体汽化器，该液体汽化器通过将特定成膜用液体原料进行汽化，最后通过载气将汽化后的气体通过气路输出到半导体成膜的反应腔中制备薄膜。该液体汽化装置包含一主体及一阻挡器。该主体定义一腔体，该腔体具有用于接收一或多个原料的一输入端及用于排出气体的一输出端。该阻挡器设置在该主体的腔体中，并藉此将该腔体分成一第一腔体及一第二腔体，其中该第一腔体包含该输入端而该第二腔体包含该输出端。该阻挡器具有一或多个孔状通道，藉此该第一腔体与该第二腔体通过所述孔状通道相互连通。

主权项

1.一种液体汽化装置，经配置以自一载体气体供给源接收载体气体及自一液体原料供给原接收液体原料，其特征在于，该液体汽化装置包含：一主体，具有一内壁，该内壁定义一腔体，该腔体具有用于接收一或多个原料的一输入端及用于排出气体的一输出端；及一阻挡器，设置在该主体的腔体中，并藉此将该腔体分成一第一腔体及一第二腔体，其中该第一腔体包含该输入端而该第二腔体包含该输出端，该阻挡器具有一或多个孔状通道，藉此该第一腔体与该第二腔体通过所述孔状通道相互连通。