[发明专利]一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质

摘要

一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。

主权项

1.一种提高双面光刻一致性的方法，其特征在于步骤如下：(1)在上掩模版和下掩模版初步对准后按顺序叠放，使上掩模版和下掩模版膜面重和，控制面板(7、12)控制下掩模版夹盘及吸盘装置(6)吸住下掩模板(15)；(2)调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)，使上掩模版(14)和下掩模版(15)表面水平贴合；(3)将水平仪置于上掩模版夹盘及翻转装置(4)上，上掩模版夹盘及翻转装置(4)的把手端与上掩模版夹盘及翻转装置(4)的支架分离，调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)，观察水平仪水平后，通过单视场无极变倍显微镜显微镜(10)或CCD摄像头(3)观测使上掩模版(14)与下掩模版(15)分离；(4)用单视场无极变倍显微镜(10)或CCD摄像头(3)，将上掩模版(14)和下掩模版(15)上的同轴标记对准；(5)三方向可调节工件安装架(5)固定安装在下掩模版夹盘及吸盘装置(6)上；(6)将待曝光的工件放置在三方向可调节工件安装架(5)中；(7)调整上掩模版夹盘及翻转装置高度调节装置(13)使上掩模版夹盘及翻转装置(4)的高度与工件的高度一致，将上掩模版夹盘及翻转装置(4)至水平；(8)通过调整三方向可调节工件安装架(5)使被曝光的工件的边缘与上掩膜板(14)的同轴标记对准，固定被曝光的工件的位置；(9)单视场无极变倍显微镜(10)或CCD摄像头(3)记录步骤(9)的监控调整和对准过程；(10)控制面板(7、12)调整后对准曝光头(2)和下曝光头(8)的曝光参数，对工件进行曝光。