[发明专利]一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片及其制造方法在审
| 申请号： | 201810076589.1 | 申请日： | 2018-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN108461262A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 尉晓东;刘志坚 | 申请（专利权）人： | 麦格磁电科技（珠海）有限公司 |
| 主分类号： | H01F27/34 | 分类号： | H01F27/34;H01F27/36;H01F38/14;H01F41/02;C09J7/29 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 俞梁清 |
| 地址： | 519040 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片，包括两层或两层以上的基于非晶或者纳米晶带材形成的鳞片状结构、中间粘接层和表面粘接层，所述鳞片状结构具有多个碎片，相邻的碎片部分区域接触或完全不接触，相邻的碎片之间存在微小间隙，本发明还提供一种磁性薄片的制造方法。本磁性薄片的带材采用鳞片状结构，鳞片状结构具有多个存在微小间隙的碎片，相邻的碎片部分区域接触或完全不接触，从而减小碎片间隙边缘接触面积，接触电阻增大，减小涡流损耗，由于无需使碎片间绝缘，碎片间隙非常小，不但能够提高磁导率，降低制造工艺难度，而且中间粘接层及表面粘接层无需填充碎片间隙，粘接厚度及整个磁性薄片厚度明显降低。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性薄片 鳞片状结构 带材 纳米晶 非晶 中间粘接层 表面粘接 区域接触 微小间隙 不接触 减小 两层 间隙边缘 接触电阻 涡流损耗 制造工艺 磁导率 粘接 绝缘 填充 制造 | ||
【主权项】：
1.一种基于非晶或纳米晶带材的磁性薄片，其特征在于，包括：两层或两层以上的基于非晶或者纳米晶带材形成的鳞片状结构，所述鳞片状结构具有多个碎片，相邻的碎片部分区域接触或完全不接触，相邻的碎片之间存在微小间隙；中间粘接层，其两层面分别设置第一粘接面和第二粘接面，所述中间粘接层插入各层鳞片状结构之间，并通过第一粘接面和第二粘接面粘结鳞片状结构，各层鳞片状结构通过中间粘接层层叠；表面粘接层，所述表面粘接层的其中一层面设置第三粘接面，所述表面粘接层通过第三粘接面粘结于两层或两层以上鳞片状结构的最上层和/或最下层表面。
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