[发明专利]掩膜板及彩色滤光片的制作方法

摘要

本发明提供一种掩膜板及彩色滤光片的制作方法。本发明的掩膜板用于制作彩色滤光片，具有图案区域，所述图案区域为半透光区域，且所述图案区域的透光率由掩膜板的四周边界处向中心处递减，从而使通过掩膜板的照射能量由四周边界处向中心处递减，使用该掩膜板制作彩色滤光片，能够有效改善现有技术中因掩膜板自重向下弯曲而造成其图形拉伸不均一进而导致彩色滤光片上图形尺寸大小不均一的问题，得到线宽均匀的图案。本发明的彩色滤光片的制作方法采用上述的掩膜板，能够得到线宽均匀的图案，有效改善大尺寸显示产品中彩色滤光片上图形尺寸大小不均一的问题。 1

主权项

1.一种掩膜板，其特征在于，用于制作彩色滤光片，具有图案区域，包括玻璃基板(101)、以及设于所述玻璃基板(101)上的金属膜(102)和多个半透膜(103)；

所述金属膜(102)在玻璃基板(101)上形成遮光区域，并在对应所述图案区域上设有数个开口(104)；

所述多个半透膜(103)对应设于所述图案区域上，所述图案区域为半透光区域；

所述图案区域上的多个半透膜(103)的透光率由掩膜板的四周边界处向中心处递减。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述图案区域上的多个半透膜(103)的透光率为50％‑100％。

3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述金属膜(102)的材料为铬。

4.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述玻璃基板(101)为石英玻璃基板。

5.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，其厚度为5‑20mm。

6.一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供一衬底基板(200)，在所述衬底基板(200)上涂布光阻材料形成光阻层(300)；

步骤S2、提供如权利要求1‑5中任一项所述的掩膜板(100)，利用所述掩膜板(100)对所述光阻层(300)进行曝光；

步骤S3、对曝光后的所述光阻层(300)进行显影，得到所述彩色滤光片上所需的色阻图案(350)。

7.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述衬底基板(200)为彩膜基板、或薄膜晶体管基板。

8.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，通过曝光机对所述光阻层(300)进行曝光，所述曝光机为投影式曝光机。

9.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中，所涂布的光阻材料为正性光刻胶材料；所涂布的光阻材料为红色、绿色、或蓝色光刻胶材料。

10.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤S3还包括，在对所述光阻层(300)进行显影后，对所述光阻层(300)进行烘烤。