[发明专利]图案化方法

摘要

本发明公开了一种图案化方法，其包括：先在目标层上形成硬掩模层、下部图案转移层及上部图案转移层。再进行第一SARP制作工艺，将上部图案转移层图案化成上部图案掩模。进行第二SARP制作工艺，将下部图案转移层图案化成下部图案掩模。上部图案掩模及下部图案掩模定义孔图案。在孔图案中填充介电层。介电层及上部图案掩模被回蚀直到下部图案掩模被暴露。下部图案掩模被去除，形成岛状图案。再以岛状图案作为蚀刻硬掩模，将硬掩模层图案化成硬掩模图案。再以硬掩模图案作为蚀刻硬掩模，将目标层图案化成目标图案。

主权项

1.一种图案化方法，其特征在于，包含有：提供一基板，其上具有目标层、硬掩模层，位于该目标层上、下部图案转移层，位于该硬掩模层上，及上部图案转移层，位于该下部图案转移层上；进行第一自对准反向图案化制作工艺，以将该上部图案转移层图案化成该下部图案转移层上的一上部图案掩模；进行第二自对准反向图案化制作工艺，以将该下部图案转移层图案化成一下部图案掩模，其中该上部图案掩模及该下部图案掩模一起定义孔图案的阵列；在该孔图案的阵列填充一有机介电层；回蚀该有机介电层及该上部图案掩模，直到该下部图案掩模被暴露出来；移除该下部图案掩模，留下该硬掩模层上剩余的该有机介电层以形成岛状图案；以该岛状图案作为蚀刻硬掩模，将该硬掩模层图案化为硬掩模图案；及以该硬掩模图案作为蚀刻硬掩模，将该目标层图案化为目标图案。