[发明专利]电活性涂层及形成电活性涂层用的组合物

摘要

本发明涉及电活性聚合物溶液或涂层、形成其的组合物及方法、电容器及其制造方法、以及抗静电物件，特别是，本发明涉及一种形成电活性涂层用的组合物，包括作为聚合催化剂的酸、至少一种功能性成分、及至少一种作为单体的式(1)的化合物其中，X选自硫、氧、硒、碲、PR2与NR2，Y为氢或其共轭酸(HY)的pKa30的易离去基Y‑的前体，Z为氢、硅烷基、或其共轭酸(HZ)的pKa30的易离去基Z‑的前体，b为0、1或2，各R1为取代基，所述至少一种式(1)的化合物包括至少一种Z＝H且Y≠H的式(1)的化合物。

主权项

1.一种电活性涂层，用于电磁辐射屏蔽，或用于红外线、无线射频及微波吸收屏蔽，或用于抗腐蚀涂布层，且由组成物形成，其特征在于，所述组成物包括：

做为单体的至少一种式(1)的化合物，

其中，

X选自硫、氧、硒、碲、PR²与NR²，其中R²选自氢，以及经取代和未经取代的烷基、芳基、杂芳基、烷醯基与芳醯基；

Y为氢，或易离去基Y‑的前驱物，所述易离去基Y‑的共轭酸即HY的pK_a<30；

Z为氢、硅烷基，或易离去基Z‑的前驱物，所述易离去基Z‑的共轭酸即HZ的pK_a<30；

b为0、1或2；

各R¹为取代基，其中当b为2时，两个所述R¹可以相同或不同，且可连成一个环；并且

所述至少一种式(1)的化合物包括至少一种Z＝H且Y≠H的式(1)的化合物；

做为聚合催化剂的酸，选自质子酸、高分子酸与非过渡路易斯酸；以及

至少一种功能性成分，选自溶剂、聚合抑制剂、聚合物黏合剂、掺杂剂、介电层保护剂、塑化剂、耐冲击改质剂、交联剂、界面活性剂与分散稳定剂，但至少包含至少一种聚合抑制剂，所述至少一种聚合抑制剂包括具有硷性强过所述单体的至少一种路易斯碱。

2.一种电活性涂层，用于电磁辐射屏蔽，或用于红外线、无线射频及微波吸收屏蔽，或用于抗腐蚀涂布层，且由组成物形成，其特征在于，所述组成物包括：

做为单体的至少一种式(2)的化合物；

其中，

各个X彼此相同或不同，且各自独立地选自硫、氧、硒、碲、PR²与NR²，其中R²选自氢，以及经取代和未经取代的烷基、芳基、杂芳基、烷醯基与芳醯基；

Y为氢，或易离去基Y^‑的前驱物，所述易离去基Y^‑的共轭酸即HY的pK_a<30；

Z为氢、硅烷基，或易离去基Z^‑的前驱物，所述易离去基Z^‑的共轭酸即HZ的pK_a<30；

Ar为经取代或未经取代的、单核或多核的芳环或杂芳环；

m、o与p各自独立为大于或等于0的整数，但m+p≥1；

各个k独立为0、1或2；

各R⁵为取代基，其中在同一个环或相邻两个环上的任两个R⁵可连成另一个环，或者R⁵与在相邻Ar环上的取代基可连成另一个环；并且

其中所述至少一种式(2)的化合物包括Z＝H且Y≠H的至少一种式(2)的化合物；

做为聚合催化剂的酸，其是选自质子酸、高分子酸与非过渡路易斯酸；以及

至少一种功能性成分，选自溶剂、聚合抑制剂、聚合物黏合剂、掺杂剂、介电层保护剂、塑化剂、耐冲击改质剂、交联剂、界面活性剂与分散稳定剂，但至少包含至少一种聚合抑制剂，所述至少一种聚合抑制剂包括具有硷性强过所述单体的至少一种路易斯碱。

3.根据权利要求1或2所述的电活性涂层，其特征在于，其是由电活性聚合物溶液制做而得，所述电活性聚合物溶液包括由所述组成物制备的共轭性杂芳香环聚合物。

4.根据权利要求1或2所述的电活性涂层，其特征在于，其是由电活性聚合物溶液制做而得，形成所述电活性聚合物溶液的方法包括：

将所述组成物置于反应容器中；以及

执行下述步骤中的至少一者：提升该组成物的温度的步骤、部分蒸发该组成物中的所述溶剂的步骤，以及部分或完全蒸发掉做为该组成物中的所述聚合抑制剂的步骤，藉此开始及/或持续进行聚合反应，形成含有共轭性杂芳香环聚合物的溶液。

5.根据权利要求1或2所述的电活性涂层，其特征在于，形成所述电活性涂层的方法包括：

a).使权利要求1或2所述的电活性涂层用的组成物与基板接触；以及

b).执行以下步骤中的至少一者：提高所述基板的温度的步骤、使所述组成物中的所述溶剂部分蒸发的步骤，以及使所述组成物中的所述聚合抑制剂部分或完全蒸发的步骤，藉此开始及/或持续于所述基板的表面上及/或所述基板的孔洞中进行聚合，以形成共轭性杂芳香环聚合物。

6.一种电活性涂层，用于触控荧幕的透明电活性涂层，用于触控面板的电活性涂层，用于可挠曲电子元件的电活性涂层、软性导电连接器，或薄膜开关的电活性涂层，用于电路板的贯孔导电涂层，或用于发光二极体、电致变色显示器、电致发光显示器、场效电晶体、有机记忆元件、太阳能电池元件、光伏打电池、染料敏化太阳能电池、智慧卡、超级电容器或感测器的电活性涂层，且由组成物形成，其特征在于，所述组成物包括：

做为单体的至少一种式(1)的化合物，

其中，

X选自硫、氧、硒、碲、PR²与NR²，其中R²选自氢，以及经取代和未经取代的烷基、芳基、杂芳基、烷醯基与芳醯基；

Y为氢，或易离去基Y^‑的前驱物，所述易离去基Y^‑的共轭酸即HY的pK_a<30；

Z为氢、硅烷基，或易离去基Z^‑的前驱物，所述易离去基Z‑的共轭酸即HZ的pK_a<30；

b为0、1或2；

各R¹为取代基，其中当b为2时，两个所述R¹可以相同或不同，且可连成一个环；并且

下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。 免登录下载普通用户下载升级VIP会员，免费下载

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于博九通科技股份有限公司，未经博九通科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】

本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810083030.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。