[发明专利]多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法有效
| 申请号： | 201810087211.1 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN108193171B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 周东平 | 申请（专利权）人： | 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/18;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/02;C23C14/04;G02B5/00;G02B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区娄*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法，对基片表面进行化学腐蚀处理，以形成粗糙的腐蚀处理面，再在腐蚀处理面上镀制黑铬金属膜层，在黑铬金属膜层上镀制消光层即得光隔离结构。本发明利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用由四层氧化物光学薄膜组成的消光层降低黑铬金属膜层的剩余反射率，再者，通过设置粗糙的腐蚀处理面，使得黑铬金属膜层具有漫反射特性，在各个方向都具有较低的剩余反射率，并使得黑铬金属膜层与基片结合得更牢固可靠；制得的光隔离结构可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能，还具有使用寿命长的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 金属膜层 黑铬 光隔离结构 集成滤光片 多通道 腐蚀处理 剩余反射率 消光层 镀制 粗糙 光学透过性能 工作性能 光学薄膜 化学腐蚀 基片表面 使用寿命 有效实现 漫反射 氧化物 制造 隔离 | ||
【主权项】：
1.一种多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、在基片上设置掩膜层，以使基片上仅有需设置光隔离结构的表面露出；/n其中，所述基片选自玻璃、石英、蓝宝石、硫化锌、硒化锌光学材料中的一种；/nS2、对基片的露出表面进行化学腐蚀处理，以形成粗糙的腐蚀处理面；/n其中，使用氢氟酸溶液或氢氟酸蒸汽对基片的露出表面进行化学腐蚀处理；/nS3、取出基片，清洗干净，并除去掩膜层；/nS4、使用机械掩膜夹具夹持清洗干净的基片，以使基片上仅有腐蚀处理面露出；/nS5、将机械掩膜夹具和基片一起放入镀膜工件载盘，再装入真空镀膜系统；/nS6、在腐蚀处理面上镀制黑铬金属膜层；/nS7、在黑铬金属膜层上镀制第一氧化铬膜层；/nS8、在第一氧化铬膜层上镀制第一二氧化硅膜层；/nS9、在第一二氧化硅膜层上镀制第二氧化铬膜层；/nS10、在第二氧化铬膜层上镀制第二二氧化硅膜层即得光隔离结构；/n其中，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶鼎鑫光电科技有限公司，未经苏州晶鼎鑫光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810087211.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
