[发明专利]一种光学元件面形加工的工艺与参数选择及其应用方法有效
| 申请号： | 201810089971.6 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN108446423B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 宋辞;戴一帆;彭小强;杜航;石峰;胡皓 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;B24B1/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 谭武艺 |
| 地址： | 410073 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学元件面形加工的工艺与参数选择及其应用方法，工艺与参数选择方法实施步骤包括：针对目标光学元件建立加工有限参数库，计算每一组工艺与参数的修形效率FA，选择修形效率FA值最大的一组工艺与参数作为输出的最优工艺与参数。工艺与参数选择方法的应用方法的实施步骤包括确定最优工艺与参数，根据最优工艺与参数对目标光学元件进行面形迭代加工直至目标光学元件的面形精度是否满足指定条件。本发明能够避免人工判断失据，实现光学元件高效高精度加工的工艺路线制定，通过最优参数选取准则，客观全面的评价最适合当前面形的各工艺及参数，避免人员选择工艺带来的不确定与不客观，有效提升工艺选取的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 加工 工艺 参数 选择 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件面形加工的工艺与参数选择方法，其特征在于实施步骤包括：1)针对目标光学元件建立加工有限参数库，所述加工有限参数库包括用于对目标光学元件进行面形加工的至少两组以上的工艺与参数；2)计算每一组工艺与参数的修形效率FA；3)选择修形效率FA值最大的一组工艺与参数作为输出的最优工艺与参数。
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