[发明专利]N型太阳能电池的制作方法在审

专利信息
申请号: 201810091473.5 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN110098280A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 何川 申请(专利权)人: 上海凯世通半导体股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种N型太阳能电池的制作方法,包括:对N型硅衬底进行双面制绒;对该N型硅衬底进行硼扩散以在该N型硅衬底的正面中形成P型掺杂层作为正面发射极;对该N型硅衬底进行背面刻蚀以去除在扩散过程中形成于该N型硅衬底背面的P型掺杂区域;对该N型硅衬底背面进行N型掺杂元素离子注入,形成N型掺杂背场;在该N型硅衬底背面形成氧化层;在该氧化层上形成N型多晶硅层。因为重掺杂背场的存在,金属和硅接触处的复合较小,太阳能电池的开路电压和转换效率得以提高。
搜索关键词: 衬底 衬底背面 氧化层 背场 正面发射极 太阳能电池 背面刻蚀 开路电压 转换效率 接触处 硼扩散 重掺杂 去除 制绒 制作 离子 复合 金属 扩散
【主权项】:
1.一种N型太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:对N型硅衬底进行双面制绒;S2:对该N型硅衬底进行硼扩散以在该N型硅衬底的正面形成P型掺杂层作为正面发射极;S3:对该N型硅衬底进行背面刻蚀以去除在扩散过程中形成于该N型硅衬底背面的P型掺杂区域;S4:对该N型硅衬底背面进行N型掺杂元素离子注入,形成N型掺杂背场;S5:在该N型硅衬底背面形成氧化层;S6:在该氧化层上形成N型多晶硅层;S7:在该N型硅衬底正面和背面形成减反射膜;S8:在该N型硅片正面和背面形成金属电极。
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