[发明专利]N型太阳能电池的制作方法在审
申请号: | 201810091473.5 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN110098280A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 何川 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种N型太阳能电池的制作方法,包括:对N型硅衬底进行双面制绒;对该N型硅衬底进行硼扩散以在该N型硅衬底的正面中形成P型掺杂层作为正面发射极;对该N型硅衬底进行背面刻蚀以去除在扩散过程中形成于该N型硅衬底背面的P型掺杂区域;对该N型硅衬底背面进行N型掺杂元素离子注入,形成N型掺杂背场;在该N型硅衬底背面形成氧化层;在该氧化层上形成N型多晶硅层。因为重掺杂背场的存在,金属和硅接触处的复合较小,太阳能电池的开路电压和转换效率得以提高。 | ||
搜索关键词: | 衬底 衬底背面 氧化层 背场 正面发射极 太阳能电池 背面刻蚀 开路电压 转换效率 接触处 硼扩散 重掺杂 去除 制绒 制作 离子 复合 金属 扩散 | ||
【主权项】:
1.一种N型太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:对N型硅衬底进行双面制绒;S2:对该N型硅衬底进行硼扩散以在该N型硅衬底的正面形成P型掺杂层作为正面发射极;S3:对该N型硅衬底进行背面刻蚀以去除在扩散过程中形成于该N型硅衬底背面的P型掺杂区域;S4:对该N型硅衬底背面进行N型掺杂元素离子注入,形成N型掺杂背场;S5:在该N型硅衬底背面形成氧化层;S6:在该氧化层上形成N型多晶硅层;S7:在该N型硅衬底正面和背面形成减反射膜;S8:在该N型硅片正面和背面形成金属电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的