[发明专利]半导体装置的制造方法和半导体装置有效

专利信息
申请号: 201810092368.3 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108630630B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 桥诘昭二;高田圭太 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/495;H01L23/49
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体装置的制造方法和半导体装置。提高半导体装置的可靠性。在半导体装置(SD)的制造方法中,在对以在Y方向上重叠的方式配置的2个半导体芯片(CH1及CH2)进行树脂密封时,在作为模具的树脂注入口的浇口部(G1)的附近配置引线(2d),来防止在密封体(1)内残留空隙。而且,引线(2d)的内引线部(IL)的Y方向上的长度(L2)比在Y方向上与芯片搭载部(4a)重叠的引线(2a)的内引线部(IL)的Y方向上的长度(L1)长。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置的制造方法,包括以下的工序:(a)工序,准备引线框架,该引线框架具备将多个第一引线相互连结且在俯视观察时沿第一方向延伸的第一连结杆、将多个第二引线相互连结且在俯视观察时沿所述第一方向延伸的第二连结杆、与所述第一连结杆及所述第二连结杆分别连结的连结部、在俯视观察时配置于所述第一连结杆与所述第二连结杆之间的第一芯片搭载部以及在俯视观察时配置于所述第一芯片搭载部与所述第二连结杆之间的第二芯片搭载部;(b)工序,在所述(a)工序之后,在所述第一芯片搭载部搭载第一半导体芯片,在所述第二芯片搭载部搭载第二半导体芯片;以及(c)工序,在所述(b)工序之后,用第一模具和第二模具夹持分别搭载有所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片的所述引线框架,经由形成于所述第一模具且设置于与所述引线框架的所述连结部重叠的位置的浇口部向由所述第一模具和所述第二模具规定的空腔供给树脂,形成对所述多个第一引线各自的一部分、所述多个第二引线各自的一部分、所述第一芯片搭载部、所述第二芯片搭载部、所述第一半导体芯片以及所述第二半导体芯片进行密封的密封体,在此,所述多个第一引线各自具有被所述密封体覆盖的内引线部和从所述密封体暴露的外引线部,所述多个第一引线具有:第三引线,具有在与所述第一方向正交的第二方向上位于所述第一连结杆与所述第一芯片搭载部之间的所述内引线部;以及第四引线,具有不位于所述第一连结杆与所述第一芯片搭载部之间的所述内引线部,在俯视观察时,所述第一芯片搭载部具有沿着所述第一连结杆延伸的第一边、位于所述第一边的相反侧的第二边、沿着所述第二方向延伸的第三边、位于所述第三边的相反侧且沿着所述第二方向延伸的第四边,在俯视观察时,所述第一芯片搭载部的所述第一边位于所述第一连结杆与所述第一芯片搭载部的所述第二边之间,在所述第二方向上,从通过所述第一连结杆与所述第二连结杆的中点且沿所述第一方向延伸的第一虚拟线到所述第一芯片搭载部的所述第一边的所述第二方向上的距离大于所述第三引线的所述内引线部的所述第二方向上的长度,所述第四引线的所述内引线部的所述第二方向上的长度大于所述第三引线的所述内引线部的所述第二方向上的长度,在所述(c)工序中,在用所述第一模具和所述第二模具夹持了所述引线框架时,在俯视观察时,所述第一模具的所述浇口部位于相比于所述第二连结杆更接近所述第一连结杆的位置,在所述(c)工序中,在用所述第一模具和所述第二模具夹持了所述引线框架时,在俯视观察时,所述第四引线的所述内引线部的一部分位于所述第一芯片搭载部与所述浇口部之间,在所述(c)工序中,在用所述第一模具和所述第二模具夹持了所述引线框架时,所述第四引线的所述内引线部的一部分与所述浇口部在所述第一方向上的间隔小于所述第四引线的所述内引线部的一部分与所述第一芯片搭载部在所述第一方向上的间隔,在所述(c)工序中,以在俯视观察时使所述第四引线的所述内引线部的所述一部分位于第二虚拟线上的方式用所述第一模具和所述第二模具夹持了所述引线框架的状态下,将所述树脂供给到所述空腔内,其中,该第二虚拟线是以通过所述浇口部的方式沿所述第一方向延伸的虚拟线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810092368.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top