[发明专利]一种提高膜厚均匀性的装置及方法

摘要

本发明公开了一种提高膜厚均匀性的装置及方法，将PECVD机台双工艺腔体中放置晶圆的加热平台设计成可以程序控速的旋转式平台，通过设置平台的旋转速度，保证晶圆在工艺时间内旋转整数圈，使双腔之间射频重叠的影响对于整片晶圆周边形成一致的效果，使得晶圆周边薄膜分布均匀，不仅消除了射频叠加带来的膜厚突变，而且可利用射频叠加会提高薄膜淀积速率的特性，减少薄膜中心与边缘的膜厚差，从而可使得在整个晶圆范围内的膜厚更加均匀。

主权项

1.一种提高膜厚均匀性的装置，其特征在于，包括：一具有双工艺腔体的PECVD机台，所述双工艺腔体中的每个工艺腔体分别设有晶圆加热平台和射频发生机构，至少一个工艺腔体的晶圆加热平台为控速旋转式平台；其中，通过所述控速旋转式平台在淀积时间内旋转整数圈，确保两个射频发生机构产生的射频叠加效果对晶圆加热平台上吸附的晶圆内外圈各位置的影响一致，以消除射频叠加带来的晶圆膜厚突变。