[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置

摘要

本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，该制作方法包括：在基底上形成膜层和光刻胶层；对光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶图形，光刻胶图形包括第一光刻胶图形和第二光刻胶图形，第一光刻胶图形对应待形成的膜层图形，第二光刻胶图形位于第一光刻胶图形的至少相对的两侧，与第一光刻胶图形间隔设置；对待构图的膜层进行湿刻，使得第一光刻胶图形和第二光刻胶图形之间的膜层被刻蚀，第二光刻胶图形下方的膜层从基底上脱离，第一光刻胶图形下方的膜层形成膜层图形。采用上述方法形成的膜层图形，能够避免底切问题，从而提高了显示产品良率及性能。

主权项

1.一种掩膜版，其特征在于，用于形成显示基板上的膜层图形，所述掩膜版包括：至少一组掩膜图形，每一组所述掩膜图形包括：对应所述膜层图形的第一图形，以及位于所述第一图形的至少相对的两侧的第二图形，所述第二图形与所述第一图形间隔设置，所述第二图形在其延伸方向上的线宽大于或等于所述第一图形在同一方向上的线宽，所述第二图形在与其延伸方向垂直的方向上的线宽小于预设阈值，所述第一图形和第二图形均为透光图形或不透光图形。