[发明专利]一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层及其制备方法

摘要

一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层及其制备方法，属于自修复涂层技术领域。其首先是对传统原子氧防护涂层构筑材料进行化学修饰，衍生出可产生超分子相互作用的化学基团，使其能够自组装形成兼具原子氧防护能力和自修复能力的超分子聚合物；然后对基底材料进行清洗和处理；再将超分子聚合物制备在基底上，从而实现本发明所述防护涂层的制备。该涂层具有透明、原子氧防护效果好、抗剥离能力强等优点。涂层经过约等于在近地轨道中运行半年的地面模拟原子氧暴露试验后，其仍能保持良好的透明性和修复能力。本发明工艺简单、材料易得、成本低廉。本发明有望在航天器的隔热材料，光学器件、太阳能帆板的柔性衬底等构件上得到运用。

主权项

1.一种具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层的制备方法，其步骤如下：(1)对传统原子氧防护涂层构筑材料进行化学修饰，衍生出可产生超分子相互作用的化学基团，使其能够自组装形成兼具原子氧防护能力和自修复能力的超分子聚合物；(2)对基底材料依次使用丙酮和去离子水超声清洗1～30min，然后在真空烘箱中干燥0.5～12h；根据步骤(1)制备的超分子聚合物和基底材料的具体情况，将基底材料在0.1～10M的硫酸溶液或0.1～10M的氢氧化钠溶液中、在25～100℃条件下浸泡1～60min，最后用大量去离子水冲洗基底材料，晾干；(3)将步骤(1)制备的超分子聚合物构筑基元配置为浓度为0.1～10wt％的溶液或分散液、抑或直接将超分子聚合物本体涂覆在步骤(2)处理后的基底上，从而实现具有自发修复物理损伤功能的原子氧防护涂层的制备，制备的涂层厚度为20nm到50μm。