[发明专利]一种高光敏性和优异掩孔性能的感光性树脂组合物及应用有效
申请号: | 201810103631.4 | 申请日: | 2018-02-01 |
公开(公告)号: | CN108205240B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 杨亮;朱霞月;朱薛妍;周光大;林建华 | 申请(专利权)人: | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/004 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 311305 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有高光敏性和优异掩孔性能的感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物包括45~75wt%的碱溶性树脂、20~50wt%的至少具有一个乙烯型不饱和双键的光聚合性化合物、0.001~2wt%的光聚合引发剂、0.1~3wt%的添加剂。本发明所制得的感光性树脂组合物和层压体,在利用激光直接成像法的抗蚀图形的形成中使用,具有对405nm波长激光光源的光敏性、掩孔性能、密合性和分辨率优异,可通过碱性水溶液显影,在PCB生产中可以有效降低破孔概率,有助于提升生产良率,显著提高PCB的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光敏 优异 性能 感光性 树脂 组合 应用 | ||
【主权项】:
1.一种具有高光敏性和优异掩孔性能的感光性树脂组合物;其特征在于,所述感光性树脂组合物包括:45~75wt%的碱溶性树脂、20~50wt%的至少具有一个乙烯型不饱和双键的光聚合性化合物、0.001~2wt%的光聚合引发剂、0.1~3wt%的添加剂。
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