[发明专利]包括基板接触插塞的半导体装置及其制造方法有效
申请号: | 201810110607.3 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN108573915B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | 关川宏昭;德光成太;小室明日翔 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L21/762 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;戚传江 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种半导体装置及其制造方法。当在电路区域中形成在比元件分离用的槽深的槽内形成且将布线与半导体基板电连接的基板接触插塞的情况下,防止由于基板接触开口率不足引起的基板接触插塞的电阻值的增大。将连接到布线(M1)和半导体基板(SB)并且不构成电路的基板接触插塞(SP2)形成于半导体芯片区域的边缘部的密封环区域(1B)。将基板接触插塞(SP2)埋入于比元件分离用的槽(D1)深的槽(D2)内。 | ||
搜索关键词: | 包括 接触 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具有:半导体基板,具有第1区域以及在俯视图中包围所述第1区域的第2区域;多个元件,形成于所述第1区域的半导体基板的上表面附近,构成第1电路;元件分离部,埋入于在所述半导体基板的所述上表面形成的第1槽内,使所述多个元件彼此相互分离;第2槽,形成于所述第1区域以及所述第2区域各自的所述半导体基板的所述上表面,且深度比所述第1槽深;第1布线,隔着层间绝缘膜而形成于所述第1区域的所述半导体基板上,构成所述第1电路;第2布线,隔着所述层间绝缘膜而形成于所述第2区域的所述半导体基板上,不构成电路;第1导电性连接部,贯通所述层间绝缘膜,且连接于所述元件;第2导电性连接部,埋入于所述第1区域的所述第2槽内,在所述第2槽的底部连接于所述半导体基板;以及第3导电性连接部,埋入于所述第2区域的所述第2槽内,不构成电路,所述第2导电性连接部的上表面连接于所述第1布线,所述第3导电性连接部的上表面连接于所述第2布线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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