[发明专利]高产能薄膜沉积装置及薄膜批量化生产方法在审
| 申请号： | 201810111868.7 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN108149214A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 熊旭明;王延凯;陈慧娟;蔡渊 | 申请（专利权）人： | 苏州新材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215125 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种工业镀膜技术领域的高产能薄膜沉积装置及薄膜批量化生产方法，包括：至少一个具有沉积源的沉积腔，其内设有沉积源；原始带卷盘腔，其内设有与走带系统相连的原始基带盘，且通过第一基带真空锁与沉积腔相连；以及产品带卷盘腔，其内设有与走带系统相连的产品基带盘，且通过第二基带真空锁与沉积腔相连；所述原始带卷盘腔、沉积腔和产品带卷盘腔均连接有抽真空装置和去真空装置，所述第一及第二基带真空锁在有带材从中穿过且带材处于静止状态的情况下对原始带卷盘腔、沉积腔和产品带卷盘腔进行高真空密封。本发明对放卷、镀膜和收卷的作业环境进行分离，减少沉积前装置准备工作所需的时间，提高产品质量和产能，降低能耗和生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积腔 基带 产品带 真空锁 带卷 卷盘 盘腔 薄膜沉积装置 走带系统 沉积源 批量化 带材 薄膜 高产 抽真空装置 高真空密封 镀膜技术 静止状态 原始基带 真空装置 装置准备 作业环境 产能 沉积 镀膜 放卷 收卷 生产成本 穿过 生产 | ||
【主权项】：
一种高产能薄膜沉积装置，其特征在于，包括：沉积腔，数量不少于1个，其中至少一个设有沉积源；原始带卷盘腔，其内设有与走带系统相连的原始基带盘，且通过第一基带真空锁与沉积腔相连；以及产品带卷盘腔，其内设有与走带系统相连的产品基带盘，且通过第二基带真空锁与沉积腔相连；所述原始带卷盘腔、沉积腔和产品带卷盘腔均连接有抽真空装置和去真空装置，所述第一及第二基带真空锁在有带材从中穿过且带材处于静止状态的情况下对原始带卷盘腔、沉积腔和产品带卷盘腔进行高真空密封。
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