[发明专利]一种电磁屏蔽片及其制备方法在审
申请号: | 201810114016.3 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN108430203A | 公开(公告)日: | 2018-08-21 |
发明(设计)人: | 徐银辉;王清华;谢国勇;刘绪绪;贺艳青;刘豪 | 申请(专利权)人: | 深圳顺络电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;C21D9/52;C21D1/74;B23D15/06 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 余敏 |
地址: | 518110 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种电磁屏蔽片及其制备方法。电磁屏蔽片的制备方法包括以下步骤:S1,在500~600℃范围内、保护气氛下热处理纳米晶带材;S2,取至少一层热处理后的纳米晶带材,将双面胶置于各层纳米晶带材层间以形成多层纳米晶带材,然后在所述多层纳米晶带材的表面贴覆一双面胶或者覆盖膜;S3,纵向剪切处理;S4,横向剪切处理;S5,将步骤S4处理后的多层纳米晶带材的最上表面和最下表面的双面胶自带的离型膜层或者覆盖膜自带的粘性膜层去掉,重新覆上一层新的离型膜层或者粘性膜层。本发明的制备方法能够批量连续化生产,且制得的电磁屏蔽片可同时应用于无线充电和NFC通信场景中,应用于无线充电时转化效率也较高。 | ||
搜索关键词: | 带材 纳米晶 电磁屏蔽片 制备 双面胶 多层 离型膜层 无线充电 粘性膜层 覆盖膜 自带 连续化生产 热处理纳米 热处理 横向剪切 转化效率 纵向剪切 表面贴 上表面 下表面 层间 应用 场景 | ||
【主权项】:
1.一种电磁屏蔽片的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1,在500~600℃范围内、保护气氛下热处理纳米晶带材;S2,取至少一层热处理后的纳米晶带材,将双面胶置于各层纳米晶带材层间以形成多层纳米晶带材,然后在所述多层纳米晶带材的最上表面贴覆一双面胶或者覆盖膜,在所述多层纳米晶带材的最下表面贴覆一双面胶或者覆盖膜;S3,将步骤S2处理后的多层纳米晶带材通过纵向剪切刀进行纵向剪切处理,使得所述多层纳米晶带材剪切成宽度为0.2~1mm的纵向条状结构;S4,将步骤S3处理后的多层纳米晶带材通过横向剪切刀进行横向剪切处理,使所述纵向条状结构横向破碎形成长度为0.2~1mm、宽度为0.2~1mm的网格状碎块;S5,将步骤S4处理后的多层纳米晶带材的最上表面和最下表面的双面胶自带的离型膜层或者覆盖膜自带的粘性膜层去掉,重新覆上一层新的离型膜层或者粘性膜层。
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