[发明专利]干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法有效
| 申请号： | 201810117030.9 | 申请日： | 2018-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN110119071B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 袁晓峰;吕帅;朱鹏飞;邵仁锦;朱鸣;浦东林 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215026 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 光刻 系统 打印 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种干涉光刻系统，其特征在于，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，该位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，该第一透镜与该第二透镜形成一组4F成像系统，该第三透镜与该第四透镜形成另一组4F成像系统，该锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于该第三透镜与该第四透镜之间。
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