[发明专利]图案化目标层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810120144.9 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN109767978B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 施信益;郑志玮;柯明宗 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L21/033 分类号: H01L21/033;H01L21/3065
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供一种图案化目标层的制备方法,包含在一基板上形成一目标层,以及在该目标层上方形成一多层硬掩模结构。该多层硬掩模结构包含位于该目标层上方的一第一硬掩模层、位于该目标层与该第一硬掩模层之间的一第二硬掩模层、以及位于该目标层与该第二硬掩模层之间的一第三硬掩模层,其中该第二硬掩模层的材料不同于该第一硬掩模层的材料与该第三硬掩模层的材料。该多层硬掩模结构作为一硬掩模层以于该目标层上形成一细致图案。根据本公开可维持多层硬掩模结构的硬掩模图案的形状,因而硬掩模图案可精准转移至目标层。
搜索关键词: 图案 目标 制备 方法
【主权项】:
1.一种图案化目标层的制备方法,包括:在一基板上方形成一目标层;在该目标层上方形成一多层硬掩模结构,其中该多层硬掩模结构包括位于该目标层上方的一第一硬掩模层、位于该目标层与该第一硬掩模层之间的一第二硬掩模层、以及位于该目标层与该第二硬掩模层之间的一第三硬掩模层,其中该第二硬掩模层的材料不同于该第一硬掩模层的材料与该第三硬掩模层的材料;图案化该第一硬掩模层,以形成多个第一硬掩模图案;图案化该第二硬掩模层,以形成多个第二硬掩模图案,其中该多个第二硬掩模图案的一部分被该多个第一硬掩模图案覆盖,以及该多个第二硬掩模图案的另一部分通过该多个第一硬掩模图案而暴露;移除通过该多个第一硬掩模图案与该多个第二硬掩模图案暴露的该第三硬,以形成多个第三硬掩模图案;以及移除通过该多个第三硬掩模图案暴露的该目标层。
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