[发明专利]气体喷射装置、衬底加工设施以及衬底加工方法在审

专利信息
申请号: 201810126635.4 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN108573898A 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 池尙炫;金昌敎 申请(专利权)人: AP系统股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01J37/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 韩国京畿道华城市*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种气体喷射装置、包括气体喷射装置的衬底加工设施、及使用衬底加工设施来加工衬底的方法。根据本发明实施例的一种气体喷射装置包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上设置并对齐在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴用于朝所述衬底喷射气体;以及喷射控制单元,用于自动地控制以下中的至少一者:是否多个喷嘴中的每一者均喷射气体,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。因此,根据本发明的实施例,使用多种类型的工艺类型或多种类型的气体密度分布类型使得易于施行所述工艺,且用于调整所述多个喷嘴的开启或关闭操作的时间可缩短。
搜索关键词: 衬底 气体喷射装置 衬底加工 喷嘴 密度分布 喷射气体 喷射控制单元 工艺类型 关闭操作 目标气体 喷射部件 喷嘴喷射 对齐 自动地 加工
【主权项】:
1.一种气体喷射装置,其特征在于,包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上对齐并设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴被配置成朝所述衬底喷射气体;以及喷射控制单元,被配置成自动地控制以下中的至少一者:所述多个喷嘴中的每一者均喷射气体、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。
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