[发明专利]一种等离子刻蚀清洗液、其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种等离子刻蚀清洗液、其制备方法和应用。所述的等离子刻蚀清洗液，其由下述原料制得，所述原料包含下列组分：分散剂、羟胺类化合物和/或其盐、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺、环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物和水。本发明的等离子刻蚀清洗液可用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片，且清洗效果好，长期放置和使用过程中几乎不发生团聚，基本不产生颗粒，且同时对金属和非金属的腐蚀速率较小，具有较好的工业应用推广前景。

主权项

1.一种等离子刻蚀清洗液，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包含下列组分：分散剂、羟胺类化合物和/或其盐、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺、环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物和水；所述的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物的制备方法包括以下步骤：(1)将烷撑二醇烷基醚化合物和马来酸酐进行反应得到物质A；(2)将步骤(1)中得到的物质A、环糊精和对甲苯磺酸进行反应，即可。