[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，降低与基板接触的气体中的氧气浓度，以便在氧气浓度低的气体中处理基板。基板处理装置具有使基板旋转的旋转卡盘、配置在基板的上方的遮断构件、包围旋转基座的杯、使非活性气体从遮断构件的向下喷出口喷出的上气体阀、排出杯内的气体的排气管道。遮断构件具有配置在基板的上方的相向面和包围基板的内周面。遮断构件的内周面的下端配置在旋转基座的周围。从遮断构件的内周面的下端到旋转基座的外周面的径向的距离，在从基板的上表面到遮断构件的相向面的铅垂方向的距离以上。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有旋转卡盘、遮断构件、上非活性气体供给单元、杯和排气单元，所述旋转卡盘具有：圆板状的旋转基座，具有配置在基板的下方的圆形的上表面和外径大于基板的外径的外周面，多个卡盘销，以基板的下表面和所述旋转基座的所述上表面在上下方向上隔开间隔相向的方式将基板保持为水平，旋转马达，使所述旋转基座以及多个卡盘销围绕通过由所述多个卡盘销保持的基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；所述遮断构件包括圆板部和圆筒部，该圆板部具有配置在由所述旋转卡盘保持的基板的上方的相向面，该圆筒部具有围绕所述旋转轴线包围由所述旋转卡盘保持的基板的内周面，所述内周面的下端配置在所述旋转基座的周围，从所述内周面的下端到所述旋转基座的所述外周面的径向的距离在从由所述旋转卡盘保持的基板的上表面到所述相向面的铅垂方向的距离以上；所述上非活性气体供给单元从在所述遮断构件的所述相向面开口的向下喷出口向下方喷出非活性气体；所述杯围绕所述旋转轴线包围所述旋转基座并向上开放；所述排气单元将所述杯内的气体向所述杯的外部排出，所述遮断构件的所述圆筒部配置在环状的杯上端部和所述旋转基座之间，该杯上端部是所述杯的上端部。