[发明专利]一种紫外掩膜版及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810147175.3 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN108445708A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 严婷婷;陈尧;赵中满;李海波 申请(专利权)人: 昆山龙腾光电有限公司
主分类号: G03F1/42 分类号: G03F1/42;G03F1/48;G02F1/1339
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 杨波
地址: 215301 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种紫外掩膜版及其制造方法,所述紫外掩膜版用于在彩色滤光板胶框固化时遮挡显示区,包括提供一透明基板,采用像素掩膜图案光罩进行三次光刻,其中,每次光刻前在透明基板上涂布光阻膜,三次所述光刻后在透明基板上形成用以覆盖显示区的光阻层。包括分别通过红色像素图案光罩、绿色像素图案光罩、蓝色像素图案光罩对光阻膜进行光刻,以此在透明基板上得到具有设计总图案的光阻层。通过此方法实现节约一道紫外光罩,达到降低成本的目的。
搜索关键词: 透明基板 图案光 掩膜版 光刻 光阻层 显示区 彩色滤光板 紫外光 红色像素 蓝色像素 绿色像素 掩膜图案 光阻膜 次光 光罩 胶框 像素 固化 遮挡 制造 图案 节约 覆盖
【主权项】:
1.一种紫外掩膜版的制造方法,所述紫外掩膜版用于在彩色滤光板胶框固化时遮挡显示区,其特征在于,所述制造方法包括:在透明基板上涂布光阻剂,用像素掩膜图案光罩对光阻剂进行光刻,生成第一光阻膜;再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂,用所述像素掩膜图案光罩对透明光阻剂进行光刻,生成第二光阻膜;再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂,用所述像素掩膜图案光罩对所述光阻剂进行光刻,生成第三光阻膜;从而在所述透明基板上生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜,形成用以覆盖显示区的紫外掩膜版;其中,所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜分别对应显示区红色滤光位置、绿色滤光位置、蓝色滤光位置中的一种。
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