[发明专利]一种紫外掩膜版及其制造方法在审
申请号: | 201810147175.3 | 申请日: | 2018-02-12 |
公开(公告)号: | CN108445708A | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 严婷婷;陈尧;赵中满;李海波 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F1/48;G02F1/1339 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 215301 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种紫外掩膜版及其制造方法,所述紫外掩膜版用于在彩色滤光板胶框固化时遮挡显示区,包括提供一透明基板,采用像素掩膜图案光罩进行三次光刻,其中,每次光刻前在透明基板上涂布光阻膜,三次所述光刻后在透明基板上形成用以覆盖显示区的光阻层。包括分别通过红色像素图案光罩、绿色像素图案光罩、蓝色像素图案光罩对光阻膜进行光刻,以此在透明基板上得到具有设计总图案的光阻层。通过此方法实现节约一道紫外光罩,达到降低成本的目的。 | ||
搜索关键词: | 透明基板 图案光 掩膜版 光刻 光阻层 显示区 彩色滤光板 紫外光 红色像素 蓝色像素 绿色像素 掩膜图案 光阻膜 次光 光罩 胶框 像素 固化 遮挡 制造 图案 节约 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种紫外掩膜版的制造方法,所述紫外掩膜版用于在彩色滤光板胶框固化时遮挡显示区,其特征在于,所述制造方法包括:在透明基板上涂布光阻剂,用像素掩膜图案光罩对光阻剂进行光刻,生成第一光阻膜;再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂,用所述像素掩膜图案光罩对透明光阻剂进行光刻,生成第二光阻膜;再次在所述透明基板上涂布所述光阻剂,用所述像素掩膜图案光罩对所述光阻剂进行光刻,生成第三光阻膜;从而在所述透明基板上生成所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜,形成用以覆盖显示区的紫外掩膜版;其中,所述第一光阻膜、所述第二光阻膜、所述第三光阻膜分别对应显示区红色滤光位置、绿色滤光位置、蓝色滤光位置中的一种。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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