[发明专利]一种贵金属制品镀膜处理工艺有效
申请号: | 201810148482.3 | 申请日: | 2018-02-13 |
公开(公告)号: | CN108425101B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 孔祥产;曾步坚;林德允 | 申请(专利权)人: | 浙江银之源贵金属有限公司 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/40;C23C16/02;C23C16/505;C23C16/50 |
代理公司: | 浙江纳祺律师事务所 33257 | 代理人: | 陈钢 |
地址: | 325000 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种贵金属制品镀膜处理工艺,以金或银或者铂作为贵金属基材,首先对待镀的贵金属基材进行预清洗处理,第二步是进行活化处理;第三步是运用化学沉积法,将有机硅烷类物质、稳定剂和辅助放电气体在贵金属表面反应,最终在贵金属基材表面镀制成防氧化膜,最后取出贵金属镀膜制品即可;其中有机硅烷类物质为正硅酸乙酯、2‑(3,4‑环氧环己烷)乙基三甲氧基硅烷、3‑氨基丙基三甲氧基硅烷的混合物,稳定剂为氧化锆铈、N,N'‑乙撑双硬脂酰胺、双(乙酰丙酮基)异丁氧基异丙氧基钛酸酯和硬脂酸锌这4种物质;本发明制备出防氧化膜具有很强的基材附着力,能起到很好的抗氧化和抗硫化作用,即使经过在高温环境下一段时间后,依然具有很好的附着力。 | ||
搜索关键词: | 一种 贵金属 制品 镀膜 处理 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种贵金属制品镀膜处理工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:对待镀的贵金属基材进行镀膜前的预清洗处理;步骤二:对贵金属基材进行活化处理,在真空度为10‑20Pa的真空环境下,将预清洗处理后的待镀贵金属基材通过离子源放电处理系统进行表面放电处理,处理方式为先在温度20‑25℃条件下放电10‑20min,然后在贵金属基材表面涂刷活化剂,反复涂刷3遍,然后再进行放电处理,处理方式为在温度25‑30℃的条件下放电10‑30min,进一步对贵金属基材进行活化;步骤三:关闭离子源放电处理系统,重新抽至本底真空,然后通入有机硅烷类物质、稳定剂和辅助放电气体,其质量比为5:2:1;采用等离子体化学气相沉积的方法,在真空度为20‑40Pa的条件下,用中频电源或者射频电源进行放电,使得有机硅烷类物质和稳定剂以及辅助放电气体之间进行反应,在待镀的贵金属基材的表面镀制成一定厚度的氧化硅或者氮化硅防氧化膜;步骤四:关闭放电电源,完成整个防氧化薄膜的制备流程,待真空室恢复大气压后,取出完成防氧化薄膜镀制的贵金属镀膜制品。其中有机硅烷类物质为正硅酸乙酯、2‑(3,4‑环氧环己烷)乙基三甲氧基硅烷、3‑氨基丙基三甲氧基硅烷的混合物,其质量比为3:1:1;稳定剂为氧化锆铈、N,N'‑乙撑双硬脂酰胺、双(乙酰丙酮基)异丁氧基异丙氧基钛酸酯和硬脂酸锌的混合物,其质量比为3:2:2:3。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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