[发明专利]存储装置有效

专利信息
申请号: 201810149169.1 申请日: 2018-02-13
公开(公告)号: CN108630695B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 清水峻 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11529 分类号: H01L27/11529
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种使晶体管的动作速度提高的存储装置。实施方式的存储装置具备:多个第1电极层,在第1方向上积层;两个以上的第2电极层,在所述第1方向上积层在所述第1电极层上;信道层,在所述第1方向上贯穿所述第1电极层及所述第2电极层;以及电荷累积层,设置在所述第1电极层与所述信道层之间。所述第2电极层的所述第1方向的层厚比所述第1电极层的所述第1方向的层厚更厚。
搜索关键词: 存储 装置
【主权项】:
1.一种存储装置,其特征在于,具备:多个第1电极层,在第1方向上积层;两个以上的第2电极层,在所述第1方向上积层在所述第1电极层上;信道层,在所述第1方向上贯穿所述第1电极层及所述第2电极层;以及电荷累积层,设置在所述第1电极层与所述信道层之间;且所述第2电极层的所述第1方向的层厚比所述第1电极层的所述第1方向的层厚更厚。
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