[发明专利]一种4-羟甲基噻唑的清洁制备方法及其中间体有效
| 申请号： | 201810149197.3 | 申请日： | 2018-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN109485567B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 冯亚兵;吴春原;黄嘉慧;朱文峰 | 申请（专利权）人： | 上海博璞诺科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C07C67/29 | 分类号： | C07C67/29;C07C69/14;C07C69/614;C07D277/28 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201210 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种4‑羟甲基噻唑的清洁制备工艺及其中间体。本发明提供了一种清洁生产4‑羟甲基噻唑的工艺。以化合物I为例，其包括下述步骤：在溶剂中，在碱和催化量的2,2,6,6‑四甲基哌啶‑1‑氧化物的存在下，将化合物IV与次卤酸碱金属盐进行氧化反应，得到化合物III，之后再与N,N‑二甲基硫代乙酰胺环合得到II，水解酯基，即得到目的产物I。本发明的制备方法所使用的原料安全无毒、反应简单易操作，副反应少，可采用水作溶剂和进行后处理，及减压蒸馏纯化，降低了生产成本，制得的产品纯度高，易于工业化大生产。 |
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| 搜索关键词： | 一种 甲基 噻唑 清洁 制备 方法 及其 中间体 | ||
【主权项】：
1.一种化合物III的制备方法，其包括下述步骤：在溶剂中，在碱和2,2,6,6‑四甲基哌啶‑1‑氧化物的存在下，将化合物IV与次卤酸碱金属盐进行氧化反应，得到化合物III即可；其中，R1为C1～C4的烷基或苄基；R2为卤素、MsO‑或TsO‑；![]()
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