[发明专利]用于执行曝光处理的设备在审
申请号: | 201810150927.1 | 申请日: | 2018-02-13 |
公开(公告)号: | CN108490729A | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 佛山尉达科技有限公司 |
主分类号: | G03B27/52 | 分类号: | G03B27/52;G03B27/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528137 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于执行曝光处理的设备,包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内;光源组件用于产生曝光光线;投影组件包括透镜和支撑构件,透镜的透镜主体的边缘部固定有轨道部件;轨道部件是以与中心轴正交的方式沿左右方向延伸的细长的棱柱部件,轨道部件的上表面与透镜主体的背面接合,轨道部件在透镜主体的左右两端上延伸;第一、第二连接部件分别固定在轨道部件的左右方向的中间部分,第一、第二连接部件构造成向上开口的U字形;第一、第二连接部件正交于透镜主体的中心轴。本发明能调整投影组件在用于执行曝光处理的设备中的角度。 | ||
搜索关键词: | 轨道部件 投影组件 透镜主体 光源组件 连接部件 曝光处理 透镜 承载台 曝光腔 中心轴 固定支撑件 曝光光线 向上开口 支撑构件 支撑框架 接合 边缘部 上表面 正交的 延伸 棱柱 正交 背面 室内 | ||
【主权项】:
1.一种用于执行曝光处理的设备,其特征在于,所述用于执行曝光处理的设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件包括透镜和支撑构件,所述透镜包括透镜主体,所述透镜主体的边缘部固定有轨道部件;两个所述轨道部件安装在所述透镜主体的边缘部,所述轨道部件在所述透镜的摆动运动的中心轴的轴向上隔开预定的间隔配置,所述轨道部件是以与所述中心轴正交的方式沿左右方向延伸的细长的棱柱部件,所述轨道部件的上表面与所述透镜主体的背面接合,所述轨道部件在所述透镜主体的左右两端上延伸;第一连接部件、第二连接部件分别固定在所述轨道部件的左右方向的中间部分,所述第一连接部件、所述第二连接部件构造成向上开口的U字形,所述第一连接部件、所述第二连接部件具有近端部分和远端部分;所述第一连接部件、所述第二连接部件正交于所述透镜主体的中心轴。
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