[发明专利]基于三维激光直写的4D微纳打印方法有效

专利信息
申请号: 201810151527.2 申请日: 2018-02-14
公开(公告)号: CN108481734B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 黄天云;段慧玲 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: B29C64/112 分类号: B29C64/112;B29C64/268;B29C64/273;B29C64/386;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 张宇园<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于三维激光直写的4D微纳打印方法,包括步骤:准备进行4D微纳打印的基底;将4D可打印材料前驱体滴在基底上;控制激光照射所述前驱体,使前驱体实现三维结构的差异化变形,形成设定形状的样品;将样品显影。本发明的打印方法利用三维激光直写技术实现了三维柔性可控变形微结构的制备。
搜索关键词: 激光直写 三维 打印 前驱体 基底 变形 打印材料 激光照射 技术实现 三维结构 差异化 微结构 可控 显影 制备
【主权项】:
1.一种基于三维激光直写的4D微纳打印方法,其特征在于包括步骤:/n准备进行4D微纳打印的基底;/n将4D可打印材料前驱体滴在基底上;/n控制激光照射所述前驱体,使前驱体实现三维结构的差异化变形,形成设定形状的样品,控制激光照射所述前驱体包括:构建三维模型,构建铰链变形单元,并按设计需求将铰链变形单元组装在一起,形成可控变形的大尺度的可重构结构;依照三维模型对前驱体进行打印,打印过程中对激光功率以及扫描速度进行调节;/n将样品显影。/n
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