[发明专利]硅片清洗剂及硅片清洗方法在审
申请号: | 201810151790.1 | 申请日: | 2018-02-14 |
公开(公告)号: | CN108300583A | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 申世峰 | 申请(专利权)人: | 常州协鑫光伏科技有限公司 |
主分类号: | C11D1/72 | 分类号: | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37;C11D1/14;C11D3/60;C11D11/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 213022 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅片清洗剂及硅片清洗方法。该硅片清洗剂,含有螯合剂、活性剂、可溶性碱、醇类添加剂、消泡剂、基材湿润剂、抗氧化剂和去离子水。该硅片清洗方法是将待清洗的硅片依次经纯水漂洗、药剂清洗、纯水漂洗、超声漂洗、提拉烘干,得到表面洁净的硅片。上述硅片清洗剂及硅片清洗方法,能够降低硅片崩边、隐裂、脏污的比例,清洗后不出现黑边,硅片在清洗过程中不容易被氧化。同时,上述硅片清洗剂及硅片清洗方法还能够降低万片清洗剂的使用量,改善脱胶清洗员工的作业环境,提高硅片清洗速度。 | ||
搜索关键词: | 硅片清洗 硅片清洗剂 硅片 清洗 纯水漂洗 清洗剂 醇类添加剂 基材湿润剂 表面洁净 超声漂洗 抗氧化剂 可溶性碱 清洗过程 去离子水 药剂清洗 作业环境 活性剂 消泡剂 螯合剂 崩边 黑边 烘干 提拉 脱胶 隐裂 脏污 员工 | ||
【主权项】:
1.一种硅片清洗剂,其特征在于,包含如下质量百分比的组分:螯合剂 5%‑8%活性剂 0.5%‑1%可溶性碱 20%‑25%醇类添加剂 1%‑2%消泡剂 0%‑2%基材湿润剂 0.5%‑1%抗氧化剂 1%‑2%,去离子水 59.4%‑72%。
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