[发明专利]一种有效调控强耦合劈裂能的方法在审

专利信息
申请号: 201810152333.4 申请日: 2018-02-14
公开(公告)号: CN110164583A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 廖清;任佳欢;付红兵 申请(专利权)人: 首都师范大学
主分类号: G21K1/16 分类号: G21K1/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100048 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种有效调控强耦合劈裂能的方法。包括如下步骤:将PS溶于甲苯溶剂中,其次将不同质量的有机分子溶于PS甲苯溶液中,加热使其全部溶解,形成不同掺杂比例的混合溶液;再将配制好的混合溶液旋涂于80nm银膜上,通过控制甩膜仪转速恒定,从而得到不同掺杂比例、相同厚度的薄膜,再在有机薄膜上蒸镀上50nm银膜从而构成平板微腔,将制备好的微腔结构置于显微角分辨装置上通过测试反射率来拟合计算在不同掺杂溶度,相同厚度条件时的劈裂能。在该方法中,所用设备简单,快速方便,操作便捷,成本低,可重复性高,并且通过PS掺杂的薄膜粗糙度小,整个微腔的品质因子高,对实现全金属微腔中强耦合作用下大的劈裂能具有较高的应用价值。
搜索关键词: 劈裂 强耦合 微腔 掺杂 混合溶液 有效调控 银膜 薄膜粗糙度 测试反射率 厚度条件 甲苯溶剂 甲苯溶液 可重复性 拟合计算 品质因子 所用设备 微腔结构 有机薄膜 有机分子 转速恒定 掺杂的 角分辨 全金属 溶度 甩膜 显微 旋涂 蒸镀 制备 薄膜 加热 配制 溶解 应用
【主权项】:
1.一种有效调控强耦合劈裂能的方法,包括如下步骤:在室温条件下,将不同质量的有机分子分别溶于1ml制备好的PS甲苯溶液中,加热使有机分子充分溶于PS甲苯溶液中,形成混合溶液;之后将配好的前述混合溶液旋涂于银膜上,通过控制甩膜仪的转速恒定使得不同掺杂比例的薄膜厚度保持一致,厚度控制为580nm;最后在真空条件下,在薄膜上蒸镀上银膜就构成了微腔结构,在显微角分辨装置上测试微腔结构的反射率来计算其劈裂能的大小,通过控制薄膜中有机分子的掺杂比例来有效调控劈裂能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首都师范大学,未经首都师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810152333.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top