[发明专利]一种电镀形成微细结构的方法、微细结构以及电子器件有效
申请号: | 201810153388.7 | 申请日: | 2018-02-22 |
公开(公告)号: | CN110182752B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 王诗男 | 申请(专利权)人: | 上海新微技术研发中心有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请提供一种在基板上电镀形成微细结构的方法,包括:在基板的表面形成具有N个部分的导电薄膜,其中,所述N个部分位于所述基板的所述表面的不同位置,N为2以上的自然数;在上述导电薄膜的所述N个部分上一次性形成光刻胶图形;以及向上述导电薄膜的第n个部分通电,并以上述第n个部分作为种子层,利用电镀液对上述第n个部分进行电镀,以在上述第n个部分所对应的上述光刻胶图形的开口内部电镀形成第n个金属图形,并且,在对第n个部分进行电镀时,上述导电薄膜的尚未进行电镀的部分与所述电镀液之间不形成电流,其中,n是自然数,且1≦n≦N。根据本申请,能降低制造成本,提高微细结构性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 电镀 形成 微细 结构 方法 以及 电子器件 | ||
【主权项】:
1.一种在基板上电镀形成微细结构的方法,包括:在基板的表面形成具有N个部分的导电薄膜,其中,所述N个部分位于所述基板的所述表面的不同位置,N为2以上的自然数;在上述导电薄膜的所述N个部分上一次性形成光刻胶图形;以及向上述导电薄膜的第n个部分通电,并以上述第n个部分作为种子层,利用电镀液对上述第n个部分进行电镀,以在上述第n个部分所对应的上述光刻胶图形的开口内部电镀形成第n个金属图形,并且,在对第n个部分进行电镀时,上述导电薄膜的尚未进行电镀的部分与所述电镀液之间不形成电流,其中,n是自然数,且1≦n≦N。
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