[发明专利]用于基材的真空涂布的箱式涂布设备

摘要

用于基材涂布的箱式涂布设备(10)包括含有蒸发源(14)的真空室(12)。基材支架(16)相对于蒸发源面对面设置，使得蒸发的材料可撞击在由所述基材支架保持的基材上。除了蒸发源和基材支架之外，还设置至少一个另外的功能部件(20)、即迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构，防护罩布置(52)被分配至该功能部件，用于防止蒸发的材料撞击在所述部件上。该防护罩布置具有百叶窗部分(56)，百叶窗部分(56)可以从覆盖通过防护罩布置的通道(60)并且用于屏蔽所述部件的关闭的屏蔽位置转移到基本上清空通道以允许气体和蒸气基本上自由通过的打开的泵送位置，并且反之亦然。

主权项

1.一种用于基材、特别是眼镜镜片的真空涂布的箱式涂布设备(10)，所述箱式涂布设备(10)包括真空室(12)，所述真空室(12)能通过泵送布置(25)排空并且包含用于蒸发涂布材料的蒸发源(14)、用于保持多个基材的基材支架(16)，所述基材支架在所述真空室(12)中相对于所述蒸发源(14)面对面设置，使得被所述蒸发源(14)蒸发的涂布材料能够撞击在由所述基材支架(16)保持的基材上，其中，除了所述蒸发源(14)和所述基材支架(16)之外，提供了至少一个另外的功能部件(20、26)、即至少一个迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构(26)，在所述真空室(12)中，所述至少一个另外的功能部件(20、26)分配有防护罩布置(50、52)，所述防护罩布置(50、52)位于所述蒸发源(14)与所述功能部件(20、26)之间，从而防止由所述蒸发源(14)蒸发的涂布材料撞击在所述功能部件(20、26)上，其特征在于，分配给所述迈斯纳捕集器(20)和/或所述高真空阀机构(26)的所述防护罩布置(50、52)包括百叶窗部分(54、56)，所述百叶窗部分(54、56)能选择性地从关闭的屏蔽位置转移至打开的泵送位置，并且反之亦然，在所述关闭的屏蔽位置中，所述百叶窗部分(54、56)覆盖通过所述防护罩布置(50、52)的通道(58、60)，同时所述百叶窗部分(54、56)用于可选地与所述防护罩布置(50、52)的其余部分一起屏蔽所述功能部件(20、26)，在所述打开的泵送位置中，所述百叶窗部分(54、56)基本上清空所述通道(58、60)，以允许气体和蒸气基本上自由地通过。