[发明专利]一种离子注入设备及其离子注入方法

摘要

本发明公开了一种离子注入设备及其离子注入方法，对离子注入设备进行改造，在工艺腔与分析磁场之间增加空置挡板，空置挡板在离子注入以外的时段隔离工艺腔与分析磁场，可以减少工艺腔中的剥落物，降低特性亮暗点发生率，实现高品质显示画面。且可有效缓解工艺腔被污染的速度，提高其自清洁能力，从而延长工艺腔开腔清洁的周期。并且，在工程师打开工艺腔进行清洁之前，关闭空置挡板，使分析磁场和工艺腔分开，分析磁场的真空环境得以保留，在后续只需要对工艺腔恢复真空即可，可减少设备停机时间，可以从12小时减少到6小时。

主权项

1.一种离子注入设备，其特征在于，包括：传送腔，与所述传送腔通过阀门连接的工艺腔，通过束流腔与所述工艺腔连接的分析磁场，以及与所述分析磁场连接的离子源；其中，在所述工艺腔与所述分析磁场之间具有空置挡板，所述空置挡板用于在离子注入以外的时段，隔离所述工艺腔与所述分析磁场。