[发明专利]陶瓷金属涂层在审
| 申请号： | 201810156140.6 | 申请日： | 2018-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN108505000A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·诺兰;罗桑杰拉·利迪策;史维·辛格 | 申请（专利权）人： | 法雷奥北美有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 美国印*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种磁控溅射设备，包括第一独立溅射靶电源、第二独立溅射靶电源、工作气体端口、反应气体端口、被构造成容纳第一独立溅射靶电源、第二独立溅射靶电源、工作气体端口、反应气体端口和用于放置由所述磁控溅射设备进行涂层的沉积的部件的平台的真空腔、以及处理电路。处理电路被配置为通过在第一独立溅射靶电源和第二独立溅射靶电源之间交替地切换来分别交替地溅射第一靶和第二靶，以及控制一个或多个工艺参数以产生沉积在所述部件上的涂层的预定颜色。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶 电源 磁控溅射设备 反应气体端口 处理电路 工作气体 沉积 陶瓷金属涂层 预定颜色 真空腔 溅射 容纳 配置 | ||
【主权项】：
1.一种处理和涂覆部件的方法，所述方法包括：将所述部件放置在磁控溅射设备的真空腔中；在所述真空腔中激发等离子体；通过所述等离子体交替地或同时地以第一功率水平溅射第一靶和以第二功率水平溅射第二靶；使所溅射的第一靶、所溅射的第二靶和反应气体的组分进行化学反应；将化学反应后的组分的涂层沉积到所述部件上；以及控制所述磁控溅射设备的一个或多个工艺参数以产生沉积到所述部件上的所述涂层的预定颜色。
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