[发明专利]曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法有效
| 申请号： | 201810160995.6 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108535965B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 松尾友宏;福本靖博;大木孝文;浅井正也;春本将彦;田中裕二;中山知佐世 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、基板的曝光方法及基板处理方法。光源部向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线。在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。照度计的受光面位于以在真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。基于由照度计测量的照度，计算基板的曝光量。基于计算出的基板的曝光量，使光源部停止向基板照射真空紫外线。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其中，具有：光源部，能够向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线；照度计，在所述光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，接收一部分真空紫外线，并测量接收的真空紫外线的照度；曝光量计算部，基于由所述照度计测量的照度，计算基板的曝光量；以及光源控制部，以向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部，并且，基于由所述曝光量计算部计算出的基板的曝光量，以停止向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部，所述照度计具有接收真空紫外线的受光面，且所述受光面位于以在照射真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。
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