[发明专利]一种OELD显示器件在审

专利信息
申请号: 201810162851.4 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN108539037A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 黄静;徐湘伦 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种OELD显示器件,包括基底;基底上的平坦层、内侧挡墙及外侧挡墙;平坦层上的多个发光构件及像素定义层,发光构件容纳于像素定义层上凹槽中;覆盖于像素定义层和发光构件上的第一无机层,第一无机层延伸至内侧挡墙并覆盖;设置于第一无机层上的有机层,有机层延伸至内侧挡墙和像素定义层之间,延伸长度小于第一无机层;覆盖于有机层、第一无机层、外侧挡墙及基底上的第二无机层,第二无机层因外侧挡墙的第一及第二侧面之中有至少一个与基底形成锐角,使得其以外侧挡墙为断点呈不连续性连接。实施本发明,通过外侧挡墙使最外层无机层具有不连续性来确保切割产生的机械应力被中断,防止切割带来的膜层断裂,并保证产品表面粗糙度。
搜索关键词: 无机层 挡墙 像素定义层 基底 发光构件 有机层 不连续性 显示器件 平坦层 延伸 切割 覆盖 产品表面 机械应力 粗糙度 上凹槽 最外层 断点 膜层 锐角 断裂 容纳 侧面 中断 保证
【主权项】:
1.一种OELD显示器件,其特征在于,包括:基底(10);设置于所述基底(10)上的平坦层(20)、外侧挡墙(25)以及位于所述平坦层(20)和所述外侧挡墙(25)之间的内侧挡墙(24);其中,所述外侧挡墙(25)上形成有朝向所述平坦层(20)方向的第一侧面(251)以及远离所述平坦层(20)方向的第二侧面(252),且所述第一侧面(251)和所述第二侧面(252)之中至少有一个与所述基底(10)之间形成一定锐角的关系;设置于所述平坦层(20)上的多个发光构件(21)以及像素定义层(22);其中,每一所述发光构件(21)均容纳于所述像素定义层(22)上形成的对应凹槽(221)中;覆盖于所述像素定义层(22)和每一所述发光构件(21)上的第一无机层(26),所述第一无机层(26)延伸至所述内侧挡墙(24)并覆盖所述内侧挡墙(24);设置于所述第一无机层(26)上的有机层(27),所述有机层(27)延伸至所述内侧挡墙(24)和所述像素定义层(22)之间,且所述有机层(27)的延伸长度小于所述第一无机层(26)的长度;以及设置于所述有机层(27)、所述第一无机层(26)、所述外侧挡墙(25)及所述基底(10)上的第二无机层(28);其中,所述第二无机层(28)因所述外侧挡墙(25)在所述第一侧面(251)和所述第二侧面(252)之中至少有一个与所述基底(10)之间形成一定锐角的关系,使得其以所述外侧挡墙(25)为断点呈不连续性连接状态。
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