[发明专利]一种高遮盖高辉度的量子点扩散膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201810163911.4 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108387957A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李刚;孙书政;徐良霞;李培源;刘伟;陈冲;徐雍捷;唐海江;张彦 | 申请（专利权）人： | 宁波激智科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京策略律师事务所 11546 | 代理人： | 张华 |
| 地址： | 315040 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学薄膜领域，更具体的涉及一种量子点扩散膜。为了解决目前量子点背光扩散板辉度损失大及匀光能力一般的问题，本发明提供一种高遮盖高辉度的量子点扩散膜及其制备方法和应用。本发明将量子点膜和扩散膜合二为一，所述的量子点扩散膜包括量子点基材层和涂布于基材层上下表面的扩散层，所述量子点基材层为单层膜结构。其中量子点基材层能够提供背光模组较高的辉度，而扩散层能起到修正光线扩散角度的作用，当发光光源的光线经过扩散膜上的扩散粒子时会在表面发生光的折射、反射与散射，使背光源的光线柔和均匀地散播出来，解决了目前量子点背光模组发光不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 量子点 扩散膜 基材层 制备方法和应用 背光模组 高辉度 扩散层 辉度 遮盖 单层膜结构 背光 发光光源 光线扩散 光学薄膜 扩散粒子 上下表面 背光源 不均匀 扩散板 散射 反射 匀光 发光 柔和 折射 修正 | ||
【主权项】：
1.一种高遮盖高辉度的量子点扩散膜，其特征在于，所述量子点扩散膜包括量子点基材层和扩散层，所述的扩散层涂布于量子点基材层的上下表面；所述量子点基材层为单层膜结构。
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