[发明专利]磁控管驱动机构、磁控源和磁控溅射设备有效

专利信息
申请号: 201810167808.7 申请日: 2018-02-28
公开(公告)号: CN110205592B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 魏景峰;佘清;赵梦欣;侯珏 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;姜春咸
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种磁控管驱动机构、磁控源和磁控溅射设备。磁控管驱动机构包括导轨、移动件、升降组件和旋转组件;移动件设置在所述导轨上且能沿所述导轨往复移动,用于与磁控管连接;升降组件与所述移动件连接,并能够作往复移动,以带动所述移动件在所述导轨上移动,以使得所述磁控管对应于靶材的不同区域;旋转组件与所述导轨连接,所述旋转组件能够转动,以驱动对应于靶材的不同区域处的磁控管绕靶材的中心轴转动。通过合理地控制升降组件的移动行程以及合理地控制旋转组件的转速,可以使得靶材的任意区域处得到均匀的腐蚀,从而可以实现全靶腐蚀,进而可以提高产品的工艺制作良率,降低产品制作成本。
搜索关键词: 磁控管 驱动 机构 磁控源 磁控溅射 设备
【主权项】:
1.一种磁控管驱动机构,其特征在于,包括:导轨;移动件,设置在所述导轨上且能沿所述导轨往复移动,所述移动件用于与磁控管连接;升降组件,与所述移动件连接,所述升降组件能够作往复移动,以带动所述移动件在所述导轨上移动,以使得所述磁控管对应于靶材的不同区域;旋转组件,与所述导轨连接,所述旋转组件能够转动,以驱动对应于靶材的不同区域处的磁控管绕靶材的中心轴转动。
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