[发明专利]一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置及镀膜方法在审

专利信息
申请号: 201810174090.4 申请日: 2018-03-02
公开(公告)号: CN108385077A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 张素银;刘欣 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/26
代理公司: 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 代理人: 何碧珩
地址: 310000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置,包括镀膜腔体,镀膜腔体的顶部固定有载具,镀膜腔体的底部设有膜料蒸发结构,膜料蒸发结构包括蒸发源支撑架,蒸发源支撑架上设有坩埚,坩埚内设有膜料,蒸发源支撑架上设有精密重量传感器,精密重量传感器与坩埚底部之间设有隔热层。本发明还提供了一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜方法。本发明能够对膜层厚度进行实时间接监控并且能够实时监测膜厚度的细微变化,在多源共蒸发时可以对多个蒸发源同时分别进行监测和控制,并且能够通过这种方式控制多个膜料同时镀膜时不同膜料的厚度和比例,对于具有多个膜料的镀膜层能够获得精准的控制效果。
搜索关键词: 膜料 间接监控 蒸发源 镀膜腔体 支撑架 镀膜 膜层 坩埚 重量传感器 镀膜装置 蒸发结构 精密 监测和控制 方式控制 控制效果 实时监测 细微变化 镀膜层 对膜层 隔热层 共蒸发 多源 载具
【主权项】:
1.一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置,包括镀膜腔体,镀膜腔体的顶部固定有载具,镀膜腔体的底部设有膜料蒸发结构,膜料蒸发结构包括蒸发源支撑架,蒸发源支撑架上设有坩埚,坩埚内设有膜料,其特征是,蒸发源支撑架上设有精密重量传感器,精密重量传感器与坩埚底部之间设有隔热层。
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