[发明专利]光学邻近校正方法及掩膜版的制作方法有效

专利信息
申请号: 201810175082.1 申请日: 2018-03-02
公开(公告)号: CN110221514B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 杨青 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 薛异荣;吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学邻近校正方法及掩膜版的制作方法,光学邻近校正方法包括:若第一边缘误差在第一阈值范围外,第二边缘放置误差在第一阈值范围外,第三边缘放置误差在第二阈值范围外或第四边缘放置误差在第二阈值范围外,则根据第一光学邻近校正模型对第一底部中间修正图形进行修正且对第二底部中间修正图形进行修正,直至第一边缘放置误差和第二边缘放置误差均在第一阈值范围内且第三边缘放置误差和第四边缘放置误差均在第二阈值范围内。所述方法提高了第一修正图形和第二修正图形正的精度。
搜索关键词: 光学 邻近 校正 方法 掩膜版 制作方法
【主权项】:
1.一种光学邻近校正方法,其特征在于,包括:提供第一目标光刻掩膜图形和第二目标光刻掩膜图形,第一目标光刻掩膜图形具有第一底部图形和第一顶部图形,第二目标光刻掩膜图形具有第二底部图形和第二顶部图形,第一目标光刻掩膜图形和第二目标光刻掩膜图形重合的区域为重叠目标图形,所述重叠目标图形具有第三顶部图形和第三底部图形;提供第一光学邻近校正模型和第二光学邻近校正模型;根据第一光学邻近校正模型,对第一底部图形进行修正,得到第一底部中间修正图形,对第二底部图形进行修正,得到第二底部中间修正图形;根据第一光学邻近校正模型,对第一底部中间修正图形进行模拟曝光,得到第一底部模拟图形,对第二底部中间修正图形进行模拟曝光,得到第二底部模拟图形;根据第一底部模拟图形和第二底部模拟图形获取对应第三底部图形的第三底部模拟图形;根据第二光学邻近校正模型,对第一底部中间修正图形进行模拟曝光,得到第一顶部模拟图形,对第二底部中间修正图形进行模拟曝光,得到第二顶部模拟图形;根据第一顶部模拟图形和第二顶部模拟图形获取对应第三顶部图形的第三顶部模拟图形;获取第一底部模拟图形和第一底部图形之间的第一边缘放置误差、第二底部模拟图形和第二底部图形之间的第二边缘放置误差、第三底部模拟图形和第三底部图形之间的第三边缘放置误差、以及第三顶部模拟图形和第三顶部图形之间的第四边缘放置误差;若第一边缘误差在第一阈值范围外,或第二边缘放置误差在第一阈值范围外,或第三边缘放置误差在第一阈值范围外,或第四边缘放置误差在第二阈值范围外,则根据第一光学邻近校正模型,对第一底部中间修正图形进行修正,且对第二底部中间修正图形进行修正,直至第一边缘放置误差、第二边缘放置误差和第三边缘放置误差均在第一阈值范围内,且第四边缘放置误差在第二阈值范围内;当第一边缘放置误差、第二边缘放置误差和第三边缘放置误差均在第一阈值范围内,且第四边缘放置误差在第二阈值范围内时,将第一底部中间修正图形作为第一修正图形,将第二底部中间修正图形作为第二修正图形。
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