[发明专利]一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统在审
| 申请号： | 201810189425.X | 申请日： | 2018-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN108381305A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 张晓峰;杨强;曹中臣;林彬 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | B24B1/04 | 分类号： | B24B1/04 |
| 代理公司： | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人： | 庞学欣 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统，其包括超声电源、敞口容器、抛光液、球面阵列安装基座、压电陶瓷片和声透镜；本发明效果：可利用球面阵列上的多个声透镜来有效提高聚焦区超声强度，同时可通过调整球面阵列半径、声透镜与待加工件的相对位置来控制加工区域和强度；球面阵列可有效降低对超声电源的要求，各超声单元的驱动电压电流相位相同，不需要复杂的移相电路；可将球面阵列上压电陶瓷片产生的超声振动在待加工件表面加工区域聚焦，聚焦的超声波可以快速地对待加工件的待加工局部区域进行抛光去除，且可控制在聚焦加工区域的驻留时间来准确修正加工表面的面形，所以本装置既适用于精确面形修正也适用于普通表面抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 球面阵列 声透镜 超声 超声电源 待加工件 加工区域 聚焦流体 振动抛光 聚焦 上压电陶瓷片 透镜 压电陶瓷片 安装基座 表面加工 表面抛光 敞口容器 超声单元 超声振动 电流相位 加工表面 局部区域 面形修正 驱动电压 移相电路 驻留 超声波 加工件 聚焦区 可控制 抛光液 抛光 和声 面形 去除 修正 加工 | ||
【主权项】：
1.一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统，其特征在于：所述的装置包括超声电源(1)、敞口容器(2)、抛光液(3)、球面阵列安装基座(4)、压电陶瓷片(5)和声透镜(6)；其中，敞口容器(2)的内部盛有抛光液(3)，内部底面放置待加工件(7)；球面阵列安装基座(4)呈球冠状，设在敞口容器(2)内位于待加工件(7)正上方的部位且浸于抛光液(3)中；多个压电陶瓷片(5)固定在球面阵列安装基座(4)的底面上，其中一个位于中心部位，其余呈同心圆方式设置多圈；每个压电陶瓷片(5)下端分别安装一个声透镜(6)，并且所有声透镜(6)的焦点会聚于待加工件(7)的加工点上；由所有压电陶瓷片(5)和声透镜(6)构成球面阵列，每个压电陶瓷片(5)和与其相连接的声透镜(6)组成超声单元；超声电源(1)设置在敞口容器(2)上方，用于驱动压电陶瓷片(5)产生超声振动。
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