[发明专利]一种化学气相沉积设备在审
申请号: | 201810194858.4 | 申请日: | 2018-03-09 |
公开(公告)号: | CN108359959A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 檀长兵 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学气相沉积设备,包括压缩冷却系统、第一进气管道、反应腔室以及排气管道,所述第一进气管道连通所述压缩冷却系统与所述反应腔室,以将所述压缩冷却系统所产生压缩冷却气体传输至所述反应腔室;所述排气管道连通所述反应腔室,以排出所述反应腔室内部的气体。本发明能够有效降低反应腔冷却时间,进而提高设备稼动率。 | ||
搜索关键词: | 反应腔室 压缩冷却系统 化学气相沉积设备 进气管道 排气管道 反应腔 连通 压缩冷却气体 稼动率 室内部 排出 冷却 传输 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积设备,其特征在于,包括压缩冷却系统、第一进气管道、反应腔室以及排气管道,所述第一进气管道连通所述压缩冷却系统与所述反应腔室,以将所述压缩冷却系统所产生的压缩冷却气体传输至所述反应腔室;所述排气管道连通所述反应腔室,以排出所述反应腔室内部的气体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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