[发明专利]包含方硼石晶体的深紫外窗口器件有效
| 申请号： | 201810196576.8 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108957596B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 龙西法;王祖建 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02;C30B29/10;C30B9/12 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞 |
| 地址： | 350002 *** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种深紫外窗口器件，所述深紫外窗口器件包含方硼石晶体。所述深紫外窗口器件能透过深紫外入射电磁辐射。所述入射电磁辐射的透过范围为0.155～4.0μm。本发明中使用方硼石晶体制备深紫外窗口器件，其中，方硼石晶体是一种新的深紫外光学晶体，具有稳定的物理、化学性质，不易潮解，没有开裂问题，适合于光学器件。并且，本发明人通过对采用本发明提供的方法生长得到的方硼石晶体的光学性能进行表征，发现了其具有宽的光学透过范围，非常适合于深紫外窗口器件。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 方硼石 晶体 深紫 窗口 器件 | ||
【主权项】：
1.一种深紫外窗口器件，其特征在于，所述深紫外窗口器件包含方硼石晶体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所，未经中国科学院福建物质结构研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810196576.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种雷电预报方法及系统
- 下一篇：具有耐久性和耐划痕性的防反射制品
