[发明专利]激光雕刻的反射表面结构及其方法有效
| 申请号： | 201810198033.X | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN108312731B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | M·S·纳什纳;P·N·卢塞尔-克拉克 | 申请（专利权）人： | 苹果公司 |
| 主分类号： | B41M5/24 | 分类号： | B41M5/24;B44C1/22 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及激光雕刻的反射表面结构及其方法。本发明公开了产品上的标记以及用于在产品上提供标记的技术或方法。在一个实施例中，产品具有外壳并且标记将被设置在该外壳上。例如，特定产品的外壳可包括外部外壳表面，并且可将标记设置在该外部外壳表面上以便从该外壳的外部可见。可使用激光来精确地形成标记。可使用处理来提高标记的反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 激光雕刻 反射 表面 结构 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电子设备外壳，包括：所述电子设备外壳的衬底，所述衬底具有外表面；和设置在所述电子设备外壳的所述衬底的所述外表面上的凹陷标记；其中：所述凹陷标记包括：非热消融的表面层；覆盖所述非热消融的表面层的多个熔融区域；以及围绕所述非热消融的表面层的至少一个侧壁；以及，其中所述凹陷标记限定标记表面，所述标记表面具有与所述外表面的视觉外观不同的视觉外观。
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