[发明专利]一种制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法在审
| 申请号： | 201810199159.9 | 申请日： | 2018-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN108439328A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 刘鑫;范斌;李敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，本发明首先使用上下两个夹具将柔性薄膜基底夹持；然后将带有充气孔的背板固定在下夹具的下方；在接触式曝光过程中，利用通入的气体将柔性薄膜基底及其表面的光刻胶与掩模版无间隙紧密贴合，从而获得高精度的微纳米结构。与现有的直接接触式曝光制备柔性薄膜基底微纳米结构技术相比，具有薄膜基底与掩模版贴合紧密、微纳米结构线宽和深度均匀性好、工艺重复性和可靠性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 微纳米结构 柔性薄膜 基底 制备 夹具 充气薄膜 掩模版 工艺重复性 接触式曝光 深度均匀性 直接接触式 紧密贴合 薄膜基 充气孔 光刻胶 基底夹 无间隙 背板 贴合 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤(1)、利用上夹具(1)和下夹具(3)将柔性薄膜基底(2)夹持、绷紧；步骤(2)、在柔性薄膜基底(2)上均匀地涂覆一层光刻胶(4)；步骤(3)、将带有充气孔的背板(5)固定在下夹具(3)的下方；步骤(4)、取一块硬质掩模版(6)，并使其与光刻胶(4)分离一定间隙放置；步骤(5)、通过充气孔向由上夹具(1)、柔性薄膜基底(2)、下夹具(3)和背板(5)组成的密封腔体内充入一定体积的气体(7)，使柔性薄膜基底(2)及其表面的光刻胶(4)与掩模版(6)紧密贴合；步骤(6)、利用接触式曝光技术在紫外光(8)的照射下进行光学曝光，将掩模版图形传递到光刻胶(4)上；步骤(7)、通过显影工艺获得光刻胶(4)上的微纳米结构；步骤(8)、利用干法刻蚀技术将光刻胶图形传递到柔性薄膜基底(2)上。
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