[发明专利]一种低电阻泡沫金属的制备方法有效
申请号: | 201810208886.7 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108300969B | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | 闫焉服;王广欣;傅山泓;杨文玲;高志廷;吴丹凤 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/20 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 魏新培 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种微电子用泡沫金属的制备方法,以聚氨酯泡沫为骨架,在聚氨酯泡沫上采用磁控溅射工艺制备Ni‑Al‑Ni三层结构复合膜,其中,聚氨酯泡沫骨架上Ni‑Al‑Ni三层结构复合膜的厚度为20~30μm。本发明采用磁控溅射方式制备高纯度的金属膜,即Ni‑Al‑Ni三层结构复合膜,包括膜层、骨架与气孔三部分,提高了泡沫金属的柔韧性。 | ||
搜索关键词: | 一种 电阻 泡沫 金属 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低电阻泡沫金属的制备方法,其特征在于:以聚氨酯泡沫为骨架,在聚氨酯泡沫上采用磁控溅射工艺制备Ni‑Al‑Ni三层结构复合膜,其中,聚氨酯泡沫骨架上Ni‑Al‑Ni复合膜的厚度为20~30μm。
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