[发明专利]一种微纳模具型槽的制备方法在审
| 申请号： | 201810209247.2 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN108439329A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 闫焉服;杨文玲;王广欣;高志廷;傅山泓;吴丹凤 | 申请（专利权）人： | 河南科技大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 魏新培 |
| 地址： | 471000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 一种微纳模具型槽的制备方法，包括镀膜步骤：在等离子体增强化学气相沉积镀膜机中，采用Si片作为基体材料，在基体材料表面沉积SiC膜层；光刻步骤：采用光刻工艺将掩膜的图形转移到SiC膜层上；刻蚀步骤：采用感应耦合等离子体刻蚀机在SiC膜层上刻蚀型槽。本发明制备的模具型槽，导热系数高、热膨胀系数小，耐火、耐磨性强，对氢氧化钾碱溶液和氟化氢酸溶液等腐蚀剂都有抗腐蚀作用。 | ||
| 搜索关键词： | 模具型槽 膜层 制备 等离子体增强化学气相沉积 感应耦合等离子体刻蚀机 氟化氢酸溶液 基体材料表面 热膨胀系数 耐磨性 导热系数 镀膜步骤 光刻工艺 基体材料 刻蚀步骤 氢氧化钾 图形转移 腐蚀剂 镀膜机 碱溶液 抗腐蚀 刻蚀型 光刻 掩膜 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种微纳模具型槽的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、镀膜：在等离子体增强化学气相沉积镀膜机中，采用Si片作为基体材料，在基体材料表面沉积SiC膜层；步骤二、光刻：采用光刻工艺将掩膜的图形转移到SiC膜层上；步骤三、刻蚀：采用感应耦合等离子体刻蚀机在SiC膜层上刻蚀型槽。
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