[发明专利]关键尺寸测试条图形结构、光掩模及材料层有效
| 申请号： | 201810210226.2 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110277370B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;G03F1/44 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 张臻贤;武晨燕 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种关键尺寸测试条图形结构，包括：第一测试条框，设置于一矩形区域中，所述第一测试条框具有第一测试部、第二测试部和第三测试部，所述第二测试部的一端部连接所述第一测试部的一侧边，所述第二测试部的另一端部连接所述第三测试部的一端部，以及所述第一测试部与所述第三测试部相互平行且两者具有不对称的宽度和长度，以形成方位辨识特征。以及本发明还提供一种材料层和光掩模。实施本发明，能通过测试部的外形结构发现曝光定义反向的异常情况。 | ||
| 搜索关键词： | 关键 尺寸 测试 图形 结构 光掩模 材料 | ||
【主权项】：
1.一种关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，包括：第一测试条框，设置于一矩形区域中，所述第一测试条框具有第一测试部、第二测试部和第三测试部，所述第二测试部的一端部连接所述第一测试部的一侧边，所述第二测试部的另一端部连接所述第三测试部的一端部，并且所述第一测试部与所述第三测试部相互平行且两者具有不对称的宽度和长度，以形成方位辨识特征。
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