[发明专利]双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置在审
申请号: | 201810210266.7 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108203814A | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;郭光灿 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,包括真空腔室,真空腔室为圆型卧式真空室,通过中间挡板横向阻隔为两个腔室,每个腔室分别设有一套催化剂供给系统;每套所述催化剂供给系统分别包括圆形托盘,每个圆形托盘的上方分别设有上加热器,两个圆形托盘的下方设有一个共用的下加热器;圆形托盘与旋转驱动电机连接,每个上加热器分别与垂直升降驱动电机连接,下加热器与垂直升降驱动电机和水平方向移动驱动电机分别连接。采用了冷壁双腔室的结构设计,配合设计的运动系统,将不同二维材料的化学气相沉积分隔在两个不同的腔室进行,免去转移的过程,避免了交叉污染。 | ||
搜索关键词: | 圆形托盘 化学气相沉积 二维材料 驱动电机 双腔室 腔室 催化剂供给系统 垂直升降 上加热器 下加热器 真空腔室 异质结 水平方向移动 旋转驱动电机 横向阻隔 交叉污染 运动系统 中间挡板 真空室 冷壁 圆型 分隔 配合 | ||
【主权项】:
1.一种双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,包括真空腔室,所述真空腔室为圆型卧式真空室,所述真空腔室通过中间挡板横向阻隔为两个腔室,每个腔室分别设有一套催化剂供给系统;每套所述催化剂供给系统分别包括圆形托盘,每个圆形托盘的上方分别设有上加热器,两个圆形托盘的下方设有一个共用的下加热器;所述圆形托盘与旋转驱动电机连接,每个所述上加热器分别与垂直升降驱动电机连接,所述下加热器与垂直升降驱动电机和水平方向移动驱动电机分别连接,所述驱动电机通过密封法兰固定在所述真空腔室的壁上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的